半導体用マスク描画装置SLXを2台受注

2024年4月30日 - Mycronic AB（マイクロニック、本社：スウェーデン、日本法人：マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長：呉 健治）は本日、フォトマスク描画装置SLXを米国の既存顧客から2台受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は1,400～1,600万USドルで、1 台目は 2025 年第3 四半期に、2 台目は 2025 年第4 四半期に納入予定です。

レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの大半がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。エネルギー効率の良い最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。

マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント：
「既存のお客様の生産能力増強のため、先進的なマスク描画装置SLXを2台納入する機会を頂けたことに感謝しています。」

マイクロニックの PG 事業部はディスプレイ製造用および半導体製造用のマスク描画装置とマスク座標測定装置
を提供しています。