半導体用マスク描画装置SLXを2台受注

2024年11月5日 - Mycronic AB（マイクロニック、本社：スウェーデン、日本法人：マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長：呉 健治）は本日、フォトマスク描画装置SLXをアジア地域の新規顧客から2台受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は1,300～1,500万USドルで、1 台目は2025年第2 四半期に、2台目は2026年第1四半期に納入予定です。

レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの大半がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。エネルギー効率の良い最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。

マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント：
「最新のSLXプラットフォームの性能、生産性、信頼性により、おかげさまで弊社は新規顧客を獲得し、半導体業界向けのマスク描画装置SLXの設置台数を順調に拡大しています。」

マイクロニックの PG 事業部はディスプレイ製造用および半導体製造用のマスク描画装置とマスク座標測定装置を提供しています。